作者 | 林晴晴
修改 | 彭孝秋
硬氪得悉，近来，半导体资料企业「中科卓尔」已完结B轮领投方资金交割，领投方为中银世界出资旗下的成都交子中赢立异开展基金。一起，多家跟投组织亦在快速推动中，算计B轮融资规划数亿元。资金将用于半导体光刻用石英掩模基板的工艺研发、国产化产线建造及打破量产瓶颈。
「中科卓尔」成立于2018年，由中科院光电所杨伟博导领衔组成。公司打破了半导体掩模版基板精细抛光与镀膜要害技能，具有从工艺到中心设备的研发出产才能，并承当了国家半导体空白掩模版工业链攻关项目。其主要产品掩盖130-250nm制程半导体/显现用空白掩模版（28-90nm产品正在活跃储藏研发）及相关中心设备。
空白掩模版作为光刻工艺中的图形搬运载体，是芯与屏用光刻机的中心资料，直接影响光刻精度及产品良率。归纳多家研究报告数据，2024年全球空白掩模版市场规划约为36亿美元，我国需求折算约为100亿元人民币。我国大陆所需中高端空白掩模版严峻依靠进口，当时简直被日本HOYA、日本ध超人色情游戏视频3;徽色情&#色情2018西瓜影音30452;播平台信越化学、韩国KTG等少量几家企业独占，国产化率估计缺乏1%，国内工业亟待破局。一起，电子束曝光与缺点检测等空白掩模版出产中的中心设备长时间受美日出口操控，国内扩产受限。
现在，我国大陆可以小批量安稳供给第三方石英空白掩模版的企业仅4–5家，且要害制程设备仍依靠进口。「中科卓尔」创始人杨伟告知硬氪，“依靠进口设备的产线存在停摆危险”，并指出“现有光刻技能路线下，掩模版作为要害资料仍有约10年的不行代替周期”。
硬氪了解到，技能层面，「中科卓尔」已完结三项自主打破，其间，超精细抛光工艺到达外表粗糙度优于0.2纳米（世界干流水平0.3纳米）；磁控溅射镀膜设备完结膜层均匀性±2%（世界标准±5%）；缺点检测体系可辨认0.3微米级瑕疵并相关出产数据。杨伟表明，现在国产空白掩模版在130-500nm制程已完结技能对标，但在100nm以内更先进节点仍需进一步打破。
商业化方面，其空白掩模版已经过路维光电、&#色情2018西瓜影音23433;徽色情直播平台超人色情游戏视频龙图光罩和国内多家自研光刻机等企业验证。现在「中科卓尔」成都中试线已完结工艺与产品验证，本轮融资将要点推动量产才能建造。
「中科卓尔」团队由中科院光电所博导/西华大学教授&学术委员会主任杨伟主导，曾参加国家02专项研发，其导师姜文汉院士为国内首台光刻机研发首席科学家，一向参加辅导掩模版基板缺点检测与质量操控。中心技能团队包括多名博士及工业专家参谋，别离担任抛光、镀膜、检测等中心工艺。
出资方观念：
中银世界出资项目担任人表明：“中科卓尔在半导体资料范畴具有技能稀缺性与工业链卡位优势，团队具有十余年工业沉淀，高度符合国家‘高端制作自主化’战略。咱们将经过‘投行+商行’一体化服务，全力助推其跃升为行业龙头。”
四川鼎祥项目担任人表明：“咱们从天使轮出资中科卓尔以来，全程见证了该公司逐渐开展成为一家以自研设备和工艺完结中试线建造及运营，掩盖多个要害工业环节，且国产化率较高的国内空白掩模版范畴的抢先企业。咱们很看好中科卓尔在中高端空白掩模版国产化进程中的工业价值和商业价值。”